三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂，三氟化氮主要用于氟化剂、燃烧剂、推进剂中的氧化剂、高温金属的切割油等，在半导体行业应用广泛。然而早些年，相关产品被国外垄断，市场定价权掌握在国外厂商手中。
为破解垄断危机、抢抓市场机遇，我国于2009年成功开发出高纯三氟化氮。该产品被列入国家“重点新产品”及“火炬计划”，应用于国内大部分的半导体、液晶、太阳能行业，并出口美国、日本、法国、德国等国家。
目前我国已建成国内最大的
三氟化氮等产品研发生产基地。其中三氟化氮国内市场覆盖率超过95%，国际市场覆盖率达30%；近两年，年均增速达到30%，力争到2020年，实现年产高纯三氟化氮气体12000吨。
我国电子气体目前还属于电子材料发展的短板，需着力发展。目前高纯三氟化氮气体产量在可以满足国内需求，随着半导体电子行业的发展，高纯三氟化氮气体产量是否还能满足行业发展还未可知。
