目前，由于中国一些高纯度气体，特别是空分气体的纯度不断提高，市场对一些标准气体的组分含量要求越来越低。通过提高生产和使用单位的水平，国家标准也得到了改进。根据标准中定义的检测指标，检测需要各种高质量的标准气体。此外，对于医院使用的医用复合气体n2-no，由于对no2监管的要求越来越低，很难满足这种标准气体的生产。其最大的“瓶颈”是“零点”天然气市场不容易购买。
同时，在气体处理过程中，系统通过污染引入空气等某些杂质。因此，高压清洁剂被用于生产n2、h2、he、ar、o2和no气体，高压气体清洁技术也在不断改进和进一步发展。高压清洗机及其技术具有清洗水平高、耐压高、使用方便、投资省的特点。同时，该技术可推广应用于超纯气体的生产和生产。随着半导体和光电技术在中国的快速发展，这项技术将有广阔的市场空间。以下是几种典型气体终端清洁的简要介绍。
氮气清洁器：使用高效脱氧催化剂，利用脱氧催化剂的氧化和还原特性去除n2中的微量o2。脱氧在室温下进行。催化剂失活后，氢气用于还原，还原温度为350-450℃，具有一定的蒸汽排放。然后使用大量n2冲洗或排空，并结合氮气清洁h2。产品瓶经高压排气除氧后，氧气含量可低于0.3ppm（v/v）。这种清洁剂的特点是：耐高压，非常适合气体处理；脱氧效果明显，脱氧能力大，催化剂使用寿命长。我实验室使用的高氮净化器已使用五年，效果仍然良好。
氢气和氦气清洁剂：该清洁剂填充有两种类型的耐低温多孔吸附剂。经过良好的换热设计，它可以在低温条件下吸附，从而有效地去除h2和he中的杂质。其纯度可达999999%。由于条件非常恶劣，操作人员必须接受严格的培训和指导，否则很容易发生安全事故。
用这种方法清洗氢气的技术也可以推广到大型氢气清洗装置。这种低温方法是生产高纯度h2的重要方法，因为它使用n2、co、ch4等。有效去除h2。
