高纯度氨产品是光电子和微电子技术不可或缺的支撑材料。它广泛应用于半导体照明、平板显示器、太阳能电池和大型集成电路的制造。高纯度氨的质量直接影响材料的光学和电学性能，甚至影响设备的使用寿命。国内外都有巨大的潜在市场。随着国内半导体工业的发展，对高纯度氨的需求快速增长，高纯度电子气体的国产化是必然的发展趋势。
高纯度氨也是通过有机金属化学气相沉积（mocvd）技术生产第三代复合半导体材料氮化镓（gan）的重要支撑材料。mocvd生产氮化镓（gan）要求所用的氨必须是高纯度和超清洁的，纯度为7n（99.99999%）。由于技术瓶颈和壁垒的限制，国内高纯度氨的纯度高达6.0n，难以满足gan
高纯度和超洁净氨是成膜的最基本来源。氧分子（o2）、水（h2o）和co2是非常有害的污染物，其导致沉积金属和金属化合物的活性膜的质量降低。高纯度、超洁净氨中的金属杂质对复合半导体材料的生产极为有害，是影响其光电性能指标的关键因素之一。去除高纯度氨中的氧分子（o2）、水（h2o）和金属杂质以及将总杂质含量降低到0.1ppm以下是当前的国际气体净化问题。项目实施过程中必须解决以下关键技术：
1.清洁技术：半导体领域使用的高纯度气体纯度极高，特别是影响半导体材料生长的氧、水和其他杂质的含量必须达到ppm ppb水平。考虑到原料气的杂质含量和物理化学性质，以高效吸附和蒸馏为主要净化方法，开发了一种选择性好、吸附容量大、净化深度高的新型吸附剂和高性能催化剂。它们具有吸附和催化功能，并满足去除杂质的要求。该工艺特别适用于大规模生产。
2.清洁技术：为了达到高纯度和超清洁氨的预期纯度和清洁度，所有与气体接触的设备、容器和管道的材料必须经过预处理，以确保无表面吸附、无表面化学反应、无颗粒废物、无死体积和良好的密封性能。在清洁系统中，选用检测效率高、开口小的高性能过滤器，大大减少产品中的灰尘颗粒，实现超纯清洁产品。
3.分析检测技术：ppb或ppt（10-9~10-12）气体杂质、金属离子和粉尘颗粒的检测是高纯氨开发必须解决的关键技术。
4、工业化生产技术：采用吸附、蒸馏、超滤相结合的净化技术，使大流量的高纯度氨更容易清洗；采用创新的工艺和操作条件来改进吸附再生技术。吸附剂再生完成后，使用特殊的回吹技术作为下一个吸附循环的过渡，以使吸附剂恢复到最高活性，从而可以连续稳定地生产高纯度氨产品。
